<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Тестирование on UV Curing Matrix</title>
		<link>http://uv-curing-matrix.com/ru/tags/%D1%82%D0%B5%D1%81%D1%82%D0%B8%D1%80%D0%BE%D0%B2%D0%B0%D0%BD%D0%B8%D0%B5/</link>
		<description>Recent content in Тестирование on UV Curing Matrix</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 11:42:05 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-matrix.com/ru/tags/%D1%82%D0%B5%D1%81%D1%82%D0%B8%D1%80%D0%BE%D0%B2%D0%B0%D0%BD%D0%B8%D0%B5/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа на галлии для тестирования солнечных элементов</title>
				<link>http://uv-curing-matrix.com/ru/posts/gallium-lamp-for-solar-cell-testing/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 11:42:05 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-matrix.com/ru/posts/gallium-lamp-for-solar-cell-testing/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-matrix.com/images/c794c163e6a1433bb27962cb0d823c70.png&#34; alt=&#34;Лампа на галлии для тестирования солнечных элементов&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Когда ваша цепочка поставок рассчитана на быструю обработку заказов, скорость полировки с использованием УФ-ламп не может стать фактором, ограничивающим производительность. Именно такие галлийные лампы мы используем для тестирования солнечных элементов и в промышленных печатах – там требуется стабильный спектр излучения из дня в день.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что важно при работе лампы&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Лампа работает на основе пара ртути с добавлением галлия; её спектр излучения настраивается на длины волн 365 нм и 385 нм. Это соответствует диапазону поглощения фотоинициаторов в УФ-красках, что позволяет обеспечить стабильное связывание молекул на поверхности ПЭТ, фольги и других тонких материалов. Максимальная интенсивность излучения составляет 2,000 мВт/см² в центре дуги; за короткие промежутки времени можно достичь интенсивности 500–1,200 мДж/см². Рефлектор имеет дихроическое покрытие, которое увеличивает отражение УФ-излучения и снижает отражение инфракрасного излучения, что помогает поддерживать стабильную температуру поверхности материала.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
